pH值对还原氧化石墨结构及电容性能的影响

• 作者: 刘晨 徐健博 杨绍斌 杨芳 沈丁
• 来源期刊: 非金属矿
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化石墨 抗坏血酸 pH值 电容性能
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TM53
• 字数: 2594字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-8098.2018.05.001

摘要

以天然鳞片石墨为原料,利用改进的Hummers法制备氧化石墨(GO),再将GO经超声分散,在不同pH值条件下采用抗坏血酸进行还原,制备得到还原氧化石墨(rGO).采用SEM、XRD、恒流充放电测试分析pH值对样品的微观结构和电容性能的影响.结果表明:所得样品为片层结构,层间距为0.348～0.366 nm.随着GO溶液pH值的增加,材料的首次放电容量和循环性能都呈现先增大后减小的趋势.在pH值为9的情况下,rGO的比电容量为141.6 F/g,经过500次循环,样品容量保持率仍能达到88％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨绍斌	辽宁工程技术大学材料科学与工程学院	132	794	14.0	23.0
2	沈丁	辽宁工程技术大学材料科学与工程学院	65	169	7.0	9.0
3	杨芳	辽宁工程技术大学材料科学与工程学院	14	45	4.0	6.0
4	徐健博	辽宁工程技术大学材料科学与工程学院	8	20	2.0	4.0
5	刘晨	辽宁工程技术大学材料科学与工程学院	3	1	1.0	1.0