纳米尺度HfO2薄膜不同厚度对光学性质的影响

• 作者: 任玲玲 刘小萍 张寅辉 高慧芳
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米尺度HfO2薄膜 掠入射X射线反射技术 光谱椭偏 厚度和光学表征
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 375-382
• 页数: 8页
• 分类号: O434.19|TB39
• 字数: 4818字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20183903.0375

摘要

HfO2薄膜厚度达到纳米级别时,其光学性质会发生变化.光谱椭偏仪能够同时得到纳米尺度薄膜的厚度和光学常数,但是由于测量参数的关联性,光学常数的结果不准确可靠.本文采用溯源至SI单位的掠入射X射线反射技术对纳米尺度HfO2薄膜厚度进行准确测量,再以该量值为准确薄膜厚度参考值.利用光谱椭偏仪测量HfO2膜厚和光学常数时,参考膜厚量值,从而得到对应相关膜厚的薄膜准确光学参数.研究了以Al2O3作为薄膜缓冲层的名义值厚度分别为2,5,10 nm的超薄HfO2薄膜厚度对光学性质的影响.实验结果表明,随着HfO2薄膜厚度的增加,折射率也逐渐增大,在激光波长632.8 nm下其折射率分别为1.901,2.042,2.121,并且接近于体材料,而消光系数始终为0,表明纳米尺度HfO2薄膜在较宽的光谱范围内具有较好的增透作用,对光没有吸收.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘小萍	太原理工大学表面工程研究所	56	248	8.0	12.0
2	任玲玲	中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所	35	122	6.0	9.0
3	张寅辉	中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所	2	0	0.0	0.0
7	高慧芳	中国计量科学研究院纳米新材料计量研究所	11	24	3.0	4.0