氮气气压对多弧离子镀TiSiN涂层显微结构与腐蚀行为的影响

• 作者: 万强 刘念 刘琰 吴忠烨 杨兵 蔡耀 陈浩 陈燕鸣
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: TiSiN涂层 多弧离子镀 氮气气压 显微结构 抗腐蚀
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 29-34
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文

摘要

为了研究氮气气压对TiSiN涂层显微结构与腐蚀行为的影响,采用自制多弧离子镀设备,在抛光的单晶(100)硅片与不锈钢基底上沉积TiSiN涂层,沉积气压0.5～2.5 Pa,利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)与电化学阻抗谱(EIS)表征涂层显微结构与电化学性能.结果表明:沉积的TiSiN涂层为纳米晶-非晶复合结构,其中纳米TiN晶体被非晶的Si3N4包围.当氮气气压从0.5 Pa升高到2.5 Pa之后,TiSiN涂层晶粒尺寸由19.5 nm减小到8.0 nm.电化学阻抗随着氮气气压升高先增大后逐渐下降,沉积气压为1.0 Pa时,涂层抗腐蚀性能最强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵	武汉大学动力与机械学院	36	341	8.0	17.0
2	陈浩	武汉大学动力与机械学院	41	338	8.0	17.0
3	陈燕鸣	武汉大学动力与机械学院	6	13	2.0	3.0
4	刘念	华中农业大学工学院	8	26	3.0	5.0
5	蔡耀	武汉大学动力与机械学院	4	7	2.0	2.0
6	万强	华中农业大学工学院	6	9	2.0	2.0
7	刘琰	武汉大学动力与机械学院	5	5	2.0	2.0
8	吴忠烨	武汉大学动力与机械学院	5	4	1.0	2.0