铜钴镍离子对镁合金微弧氧化膜的影响

• 作者: 代永祺 张瑜 戴诗行 赵佳新 邵忠财 魏守强
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镁合金 微弧氧化 耐蚀性 铜离子 钴离子 镍离子
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 专题-镁铝钛及其合金表面处理技术
• 页码范围: 127-132
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 3305字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.04.019

摘要

目的 提高镁合金微弧氧化膜的耐蚀性.方法 在Na2SiO3-NaOH-Na2B4O7组成的电解液体系中,分别加入铜离子、钴离子和镍离子对AZ91D镁合金进行微弧氧化,研究离子种类和组成对膜层性能的影响.采用点滴实验测试膜层的耐蚀性,采用电化学工作站测试膜层的电化学性能,采用扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)对微弧氧化膜层的表面形貌和元素组成进行分析.结果 电解溶液中加入钴离子、铜离子、镍离子后,镁合金微弧氧化膜的耐腐蚀性能均有提高.其中铜离子的影响最大,加入1.5 g/L的铜离子后,镁合金微弧氧化膜的点滴时间提高了77.3 s,膜层耐腐蚀性能显著提高.电化学测试结果得出,不加金属离子的氧化膜的腐蚀电流密度为1.092×10-5A/cm2,腐蚀电位为-1.487 V;加入钴、铜、镍离子浓度分别为2、1.5、3 mol/L时,腐蚀电流密度分别为3.912×10-6、6.027×10-6、2.167×10-6A/cm2,腐蚀电位分别为-1.412、-0.832、-1.047 V;加入金属离子制得的微弧氧化膜的腐蚀电流密度均降低了1个数量级,腐蚀电位不同程度地正移,其中加入铜离子后腐蚀电位提高了0.655 V.加入金属离子后,陶瓷膜表面空隙和孔洞数量不同程度地变浅和减少,增加了膜层的致密性和均匀性.结论 电解液中添加一定量的铜、钴、镍离子均能够提高AZ91D镁合金微弧氧化膜层的耐蚀性,其中铜离子的效果最明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邵忠财	沈阳理工大学环境与化学工程学院	143	1094	18.0	26.0
2	魏守强	沈阳理工大学环境与化学工程学院	23	255	8.0	15.0
3	张瑜	沈阳理工大学环境与化学工程学院	6	3	1.0	1.0
4	赵佳新	沈阳理工大学环境与化学工程学院	6	3	1.0	1.0
5	戴诗行	沈阳理工大学环境与化学工程学院	15	24	3.0	4.0
6	代永祺	沈阳理工大学环境与化学工程学院	4	2	1.0	1.0