预处理和溅射工艺参数对锆合金表面TiN涂层膜/基结合强度的影响

• 作者: 唐德文 曹殿鹏 肖魏魏 邹树梁 雷明
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 锆合金 TiN涂层 结合强度 工艺参数 划痕法
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 2095-2100
• 页数: 6页
• 分类号: TL339
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2018.youxian.0446

摘要

为获得高结合强度锆合金表面涂层的制备技术,采用磁控溅射法制备了TiN涂层、划痕法测试了膜/基结合强度,研究了基体预处理表面粗糙度、溅射功率、基体加热温度和基体偏压对锆合金表面TiN涂层膜/基结合强度的影响.实验制备的TiN涂层厚度在5～15 μm范围内、基体预处理表面粗糙度在(0.20士0.03)μm范围内时,溅射功率为500 W及基体加热至300℃时涂层均有较好的结合强度.基体偏压为-100 V时涂层在所讨论的4种基体偏压中具有最好的结合强度.结果表明,溅射工艺参数对涂层膜/基结合强度有显著影响,其中影响显著性从大到小依次为基体加热温度、基体偏压、溅射功率、基体预处理表面粗糙度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邹树梁	南华大学核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室	259	1707	19.0	32.0
2	唐德文	南华大学核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室	59	146	7.0	10.0
3	曹殿鹏	南华大学核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室	5	2	1.0	1.0
7	肖魏魏	南华大学核设施应急安全技术与装备湖南省重点实验室	4	2	1.0	1.0
11	雷明		1	2	1.0	1.0