气氛对降膜介质阻挡放电反应器降解甲基橙的影响

• 作者: 姚淑美 安少锋 彭叶平 押玉荣 王保伟 王晓磊
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 介质阻挡放电 等离子体 气氛 活性氧粒子 染料废水
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 35-40
• 页数: 6页
• 分类号: X703.1
• 语种: 中文

摘要

以偶氮染料甲基橙为对象,研究使用降膜介质阻挡放电(DBD)反应器在不同放电气体(氩气、空气、氧气)下的处理效果.结果表明:氧气作DBD放电气氛时,甲基橙处理效果最佳,氩气次之,空气最差.O3、H2O2、·OH这3种活性氧粒子对于甲基橙氧化降解起着至关重要的作用,氧气放电体系内3种活性粒子的含量远高于空气放电体系;氩气放电体系内的H2O2含量最高;空气放电体系还检测到大量的对甲基橙降解不利的NO3-、NO2-.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王保伟	天津大学化工学院绿色合成与转化教育部重点实验室	89	1326	21.0	30.0
2	姚淑美	天津大学化工学院绿色合成与转化教育部重点实验室	8	48	4.0	6.0
3	彭叶平	天津大学化工学院绿色合成与转化教育部重点实验室	6	48	4.0	6.0
4	押玉荣	嘉诚环保工程有限公司河北省污水治理与资源化工程技术研究中心	6	8	1.0	2.0
5	王晓磊	嘉诚环保工程有限公司河北省污水治理与资源化工程技术研究中心	4	11	2.0	3.0