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一种单大马士革结构超厚铜集成电感
一种单大马士革结构超厚铜集成电感
作者:
曾绍海
李铭
陈张发
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
集成电路制造
工艺开发
单大马士革
铜电感
品质因子Q
摘要:
成功开发超厚介质膜的淀积和刻蚀工艺、超厚金属铜的电镀和化学机械研磨等工艺,采用与CMOS完全兼容的铜互连单大马士革工艺制作了超厚金属铜集成电感.该超厚金属铜电感在1~3 GHz频率范围内的电感值均匀,在2.5 GHz频率下的Q值达到11.并且进一步研究了线圈圈数、金属线宽和金属间距对电感值和Q值的影响.
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文献信息
篇名
一种单大马士革结构超厚铜集成电感
来源期刊
集成电路应用
学科
工学
关键词
集成电路制造
工艺开发
单大马士革
铜电感
品质因子Q
年,卷(期)
2018,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
51-54
页数
4页
分类号
TN405
字数
2727字
语种
中文
DOI
10.19339/j.issn.1674-2583.2018.04.013
五维指标
作者信息
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姓名
单位
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曾绍海
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陈张发
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李铭
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研究主题发展历程
节点文献
集成电路制造
工艺开发
单大马士革
铜电感
品质因子Q
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
集成电路应用
主办单位:
上海贝岭股份有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-2583
CN:
31-1325/TN
开本:
16开
出版地:
上海宜山路810号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
4823
总下载数(次)
15
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