一种颅脑EIT中多路电极/头皮接触阻抗的同步测量方法研究

• 作者: 付峰 刘学超 刘本源 史学涛 夏军营 李蔚琛 杨滨 董秀珍 陈荣庆 马航
• 来源期刊: 医疗卫生装备
• 学科: 其他
• 关键词: 电阻抗断层成像 接触阻抗 参考电极法 空间一致性 时间稳定性
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 专题研究
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: R318|O-334
• 字数: 2927字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7687/j.issn1003-8868.2018.04.001

摘要

目的:研究一种用于颅脑电阻抗断层成像(electrical impedance tomography,EIT)中多路电极/头皮接触阻抗的同步测量方法,为探索接触阻抗对成像的影响及其抑制方法提供支撑.方法:为系统引入一路参考电极,放置于被监测者的颈后部或头顶.在边界电压信号采集间隙,采用二电极法依次测量每一路成像电极与参考电极之间的阻抗值,以此分析多路接触阻抗的特性.并在已有颅脑EIT硬件系统的基础上进行改进,添加多路接触阻抗同步测量模块.结果:定标板测试结果表明,该模块测量误差小于1‰,10 h内测量结果的最大相对波动小于1‰.初步人体测试结果表明,该方法具备获取16路接触阻抗的空间一致性及时间稳定性信息的能力.结论:该方法具有较高的测量精度及稳定性,可满足颅脑EIT中多路接触阻抗信号的同步测量需求.