等离子体氮钝化GaSb材料表面特性研究

• 作者: 刘晓敏 唐吉龙 房丹 方铉 王新伟 王晓华 王登魁 谷李斌
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 材料 光致发光 N钝化 GaSb 刻蚀周期
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 123-128
• 页数: 6页
• 分类号: O472
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201845.0103001

摘要

利用等离子体增强原子层沉积系统,以逐层刻蚀方式对GaSb进行氮(N)钝化处理,研究了钝化过程中刻蚀周期对GaSb钝化效果的影响.研究结果表明,当刻蚀周期数为200时,钝化效果最好;刻蚀周期数不足(100)时,钝化效果最弱;刻蚀周期数较高(300～400)时,随着刻蚀周期数的增大,钝化效果减弱.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐吉龙		28	104	4.0	10.0
2	方铉		37	60	4.0	6.0
3	王晓华		54	156	7.0	9.0
4	王登魁		18	0	0.0	0.0
5	房丹		25	18	3.0	3.0
6	刘晓敏		4	13	2.0	3.0
7	王新伟		21	67	3.0	8.0
8	谷李斌		1	0	0.0	0.0