ZnO纳米线表面改性及其光学性质

• 作者: 房丹 方铉 李浩林 王新伟 王晓华 王登魁 胡颖 贾慧民 魏志鹏
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 材料 光致发光增强 Ar+等离子体处理 ZnO纳米线 表面态
• 年，卷（期）: 2018,（10）
• 所属期刊栏目: 材料与薄膜
• 页码范围: 132-136
• 页数: 5页
• 分类号: O539
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201845.1003002

摘要

利用Ar+等离子体处理ZnO纳米线,通过对不同处理时间后的样品进行变温光谱测试,分析了处理前后ZnO发光性质的变化.结果表明:随着处理时间的增加,其室温带边发光强度先增加后减小,处理90 s时是原生样品的2.45倍,位于可见区的缺陷发光得到了抑制.通过10 K下发光谱的对比,分析了等离子体作用的机理.当处理时间较短时,Ar+等离子体可以有效除去ZnO纳米线表面的杂质和缺陷,提高其紫外发光强度;而处理时间较长时,将引入更多的深施主态缺陷,破坏其晶体结构,从而降低其发光性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方铉		37	60	4.0	6.0
2	魏志鹏		44	104	5.0	8.0
3	王晓华		54	156	7.0	9.0
4	贾慧民		7	0	0.0	0.0
5	王登魁		18	0	0.0	0.0
6	房丹		25	18	3.0	3.0
7	王新伟		21	67	3.0	8.0
8	李浩林		2	0	0.0	0.0
9	胡颖		1	0	0.0	0.0