低维纳米材料的近场光学表征

• 作者: 戴庆 胡德波
• 来源期刊: 科学通报
• 关键词: 衍射极限 低维材料 近场成像 电磁模式 纳米红外
• 年，卷（期）: 2018,（35）
• 所属期刊栏目: 评述
• 页码范围: 3747-3759
• 页数: 13页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/N972018-00864

摘要

光学显微术作为一种快速、无损的表征手段在材料研究领域得到了广泛应用,但是受光的波动性制约,传统远场光学显微术无法满足低维纳米材料表征对亚衍射极限空间分辨率的需求.近年来,随着散射式扫描近场光学显微术(s-SNOM)的发展进步,光学成像的空间分辨率已经达到10 nm量级,突破了光学衍射极限.本文首先简要阐述了s-SNOM的成像原理,然后按照s-SNOM的工作模式分类介绍了其在低维纳米材料表征领域的应用研究进展,最后对s-SNOM技术未来的发展及应用进行展望.