N2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响

• 作者: 刘岩 王建明 王苓飞 贺春林 马国峰 高建君
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: TiN/Ni 纳米复合膜 反应磁控共溅射 微结构 N2流量 界面结合力
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 2038-2042
• 页数: 5页
• 分类号: TB79|TB34|TB321
• 字数: 3949字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2018.12.018

摘要

以高纯Ti和Ni为靶材,在不同N2气流量下反应磁控共溅射了TiN/Ni纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射、X射线光电子能谱、场发射扫描电镜和划痕试验研究了N2气流量对复合膜微结构、界面结合力和摩擦系数的影响.结果表明,共溅射TiN/Ni纳米复合膜组织细小、表面光滑、致密.TiN为fcc结构,其择优取向为(111)面.随N2气流量增加,复合膜孔隙率、晶粒尺寸和沉积速率均出现不同程度的下降;而膜表面粗糙度先减小后增大,界面结合力则先提高后下降.本实验条件下,在N2气流量为16 mL/min时所沉积的复合膜表面粗糙度最小、界面结合力最好,分别为2.75 nm和44.6 N,此时复合膜的摩擦系数最低,为0.14.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘岩	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	29	132	7.0	10.0
2	马国峰	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	34	110	5.0	8.0
3	贺春林	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	51	351	12.0	16.0
4	王建明	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	45	213	8.0	11.0
5	高建君	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	3	5	2.0	2.0
6	王苓飞	沈阳大学辽宁省先进材料制备技术重点实验室	3	5	2.0	2.0