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摘要:
射流阵列是扩大等离子体射流处理面积的有效手段,而如何提高射流阵列的稳定性和均匀性对于其实际应用至关重要.为了获得均匀、稳定的射流阵列,利用纳秒脉冲激励在大气压He中产生了稳定的一维等离子体射流阵列放电,利用发光图像和电气特性测量诊断了其光学特性和电学特性,研究了电压幅值、上升时间和重复频率对射流阵列放电均匀性的影响,进而获得射流阵列均匀放电的激励源条件,并结合放电机理对试验结果进行了分析.结果表明:合理地调控脉冲电源参数可在环环电极结构中产生均匀的一维等离子体射流阵列,改变电压幅值不影响射流阵列的均匀性,但可增加射流阵列的放电能量、传输电荷和射流等离子体羽长度,提高射流阵列的放电强度;脉冲上升时间对射流阵列传输功率、放电能量和等离子体羽长度影响较小;脉冲重复频率对放电能量和传输电荷的影响较小,但其是影响射流阵列均匀性的主要因素.射流阵列中不均匀的电场分布和各单元中残留活性粒子的差异是影响均匀性的主要原因,降低频率可减小残留活性粒子对放电的影响,进而提高射流阵列的均匀性.
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文献信息
篇名 脉冲参数对大气压He中一维射流阵列 放电特性的影响
来源期刊 电工技术学报 学科 工学
关键词 低温等离子体 等离子体射流 射流阵列 脉冲参数 均匀性
年,卷(期) 2018,(21) 所属期刊栏目 高电压与绝缘
研究方向 页码范围 5109-5118
页数 10页 分类号 TM213
字数 6720字 语种 中文
DOI 10.19595/j.cnki.1000-6753.tces.171627
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 方志 南京工业大学电气工程与控制科学学院 79 835 17.0 23.0
2 张波 南京工业大学电气工程与控制科学学院 19 22 3.0 4.0
3 周若瑜 南京工业大学电气工程与控制科学学院 3 0 0.0 0.0
4 汪立峰 南京工业大学电气工程与控制科学学院 4 0 0.0 0.0
5 陈兆权 安徽工业大学电气与信息工程学院 10 13 2.0 3.0
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研究主题发展历程
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低温等离子体
等离子体射流
射流阵列
脉冲参数
均匀性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
电工技术学报
半月刊
1000-6753
11-2188/TM
大16开
北京市西城区莲花池东路102号天莲大厦10层
6-117
1986
chi
出版文献量(篇)
8330
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38
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195555
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