介质阻挡放电等离子体处理对聚酰亚胺表面放电的影响

• 作者: 吴广宁 吴旭辉 张兴涛 杨雁 钟鑫 雷毅鑫
• 来源期刊: 高电压技术
• 关键词: 介质阻挡放电 聚酰亚胺 方波脉冲 表面放电 傅里叶红外光谱 耐电晕
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 放电等离子体与脉冲功率
• 页码范围: 3097-3104
• 页数: 8页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20180828042

摘要

为了研究方波脉冲下低温等离子体对聚酰亚胺(polyimide,PI)表面放电的影响,采用介质阻挡放电(dielectric barrier discharge,DBD)在大气压空气中产生功率密度为24.5 W/cm3低温等离子体,并对PI薄膜表面进行不同时间的等离子体改性,通过扫描电子显微镜(scanning electron microscope,SEM)观测其微观形貌、傅里叶红外光谱(Fourier transform infrared spectroscopy,FTIR)研究其化学结构变化,同时测试其表面电导率和耐电晕时间.研究结果表明:等离子体在PI薄膜表面引入了极性官能团;随着改性时间的增大,其表面电导率逐渐增大,而PI薄膜的耐电晕时间则先增大后减小,且当改性时间为10s时,其耐电晕时间最大,相对于未改性的PI膜提高了17.7％;一定程度的等离子体处理(＜10s)可增加PI薄膜表面的电荷扩散速率和电荷注入难度,从而增强耐电晕寿命;处而理时间过长(＞20 s),则会对薄膜造成严重刻蚀,产生许多沟壑和微孔,加大电荷的注入和对高分子链的破坏,从而减小耐电晕寿命.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴广宁		458	6939	39.0	56.0
2	张兴涛		11	13	2.0	3.0
3	杨雁		15	13	2.0	3.0
4	钟鑫		15	32	3.0	5.0
5	吴旭辉		12	13	2.0	3.0
6	雷毅鑫		6	0	0.0	0.0