基于正交试验的单晶硅靶材制备氮化硅薄膜沉积参数的优化

• 作者: 伏宁娜 刘丽娟 成云平 武文革 王昕宇 马辰卉
• 来源期刊: 工具技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化硅薄膜 沉积参数 正交试验 参数优化
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 试验与研究
• 页码范围: 31-35
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.4|TH145|TP212
• 字数: 2771字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-7008.2018.04.006

摘要

基于单晶硅靶材制备氮化硅薄膜的沉积参数正交试验,通过选择和研究溅射功率、工作压强、气体流量比和基底温度这四个因素,得到这四个因素对薄膜沉积速率和薄膜表面粗糙度的影响规律;利用从正交试验中得到的一系列观测值分别建立关于薄膜沉积速率和薄膜表面粗糙度与四个沉积参数之间相互影响变化的两个经验模型公式;为得到较好的沉积效果,对所得到的经验公式进行分析,得到最佳沉积参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	武文革		68	346	11.0	16.0
2	成云平		21	71	5.0	7.0
3	刘丽娟		22	128	5.0	10.0
4	马辰卉		2	2	1.0	1.0
5	王昕宇		3	2	1.0	1.0
6	伏宁娜		4	12	3.0	3.0