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甲烷与氢气的流量比在高功率下对金刚石膜生长的影响
甲烷与氢气的流量比在高功率下对金刚石膜生长的影响
作者:
刘繁
周程
汪建华
翁俊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
甲烷
氢气
高微波功率
微波等离子体
化学气相沉积
摘要:
目的 在实验室自制的10 kW微波等离子体化学气相沉积装置中,系统分析甲烷与氢气的流量比在高功率微波等离子体环境中对金刚石膜生长的影响.方法 利用等离子体发射光谱诊断分析高功率微波等离子体放电环境的特征,同时利用SEM及Raman光谱对不同沉积条件下获得的金刚石膜的形貌及质量进行表征,以确定高功率微波馈入情况下甲烷流量的调控原则.结果 微波功率的提高可以有效地增加等离子体中的电子密度,产生更多活性H原子以及CH和C2等有利于金刚石膜生长的含碳气团.在保持微波功率为5000 W、氢气流量为300 mL/min、腔体气压为13 kPa和基片温度为(950±20)℃的实验条件下,当Q(CH4)/Q(H2)<1.0%时,金刚石膜中二次形核现象明显,晶粒尺寸较小;当1.0%≤Q(CH4)/Q(H2)≤2.0%时,可获得晶粒完整且质量较高的金刚石膜;当Q(CH4)/Q(H2)>2.0%,金刚石膜可获得较大的晶粒,但易产生孪晶.结论 提高微波功率利于活性氢原子的产生,可更充分地活化含碳大分子气体.在本实验条件下,当1.0%≤Q(CH4)/Q(H2)≤2.0%时,所制备的金刚石膜具有较高的质量.
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篇名
甲烷与氢气的流量比在高功率下对金刚石膜生长的影响
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
甲烷
氢气
高微波功率
微波等离子体
化学气相沉积
年,卷(期)
2018,(11)
所属期刊栏目
膜层材料与技术
研究方向
页码范围
202-209
页数
8页
分类号
TG174.442
字数
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.11.029
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
汪建华
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
123
698
14.0
19.0
2
翁俊
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
33
102
4.0
8.0
3
刘繁
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
22
74
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周程
武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室
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研究主题发展历程
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甲烷
氢气
高微波功率
微波等离子体
化学气相沉积
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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