酸性条件下的CdSe波片抛光工艺研究

• 作者: 安辛友 张志勇 张敏 曾体贤 杨辉 魏顺勇
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硒化镉波片 化学机械抛光 表面粗糙度 平行度公差 红外透过率
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 页码范围: 1280-1285
• 页数: 6页
• 分类号: O786
• 字数: 2118字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2018.06.033

摘要

利用自然解理和X射线衍射仪对气相法制备的大尺寸CdSe单晶定向,并沿光轴方向切割出20 mm×20 mm ×3 mm的CdSe波片初胚.采用酸性化学机械抛光方法对波片初胚进行表面处理,将5%溴甲醇与W0.25(粒度为0.25 μm)的金刚石悬浮液按1:10的体积比混合并用盐酸调节抛光液的pH值.结果表明:当抛光液pH＝5时,样品表面平整划痕较少,粗糙度约为0.8 nm,平行度公差f＝0.00275 mm,样品的红外透过率在2-20 μm波段均达到65%-70%,其吸收系数在0.01～0.06 cm-1之间

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安辛友	西华师范大学物理与空间科学学院	12	21	2.0	4.0
2	曾体贤	西华师范大学物理与空间科学学院	47	165	5.0	12.0
3	杨辉	西华师范大学物理与空间科学学院	20	18	3.0	3.0
4	张敏	西华师范大学物理与空间科学学院	54	134	7.0	10.0
5	魏顺勇	西华师范大学物理与空间科学学院	1	1	1.0	1.0