低温磁控溅射法制备氧化锌薄膜的光学性能研究

• 作者: 刘艳中 张尧 朱振宇 李翠平 申子龙 黄绪
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌薄膜 磁控溅射法 低温沉积 光学性能
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 页码范围: 1517-1523
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 3946字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2018.08.003

摘要

采用射频磁控溅射法,在较低的衬底温度(100℃)下,改变溅射时间,制备了一组氧化锌(ZnO)薄膜.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、X射线能谱仪(EDS)、傅里叶红外光谱(FTIR)、拉曼光谱和紫外-可见分光光度计对制备的ZnO薄膜的微观结构、形貌和光学特性进行了研究.XRD图谱表明,制备的ZnO薄膜具有良好的结晶性和c轴择优取向,随着溅射时间的增加,(002)衍射峰的强度先增大后降低,溅射时间为40 min时,(002)衍射峰的强度达到最大,衍射峰半高宽最小;AFM测试表明制备的ZnO薄膜表面呈现球状颗粒,随着溅射时间的延长,薄膜的颗粒尺寸和表面均方根粗糙度均逐渐变大;EDS结果显示溅射时间较长(40 min和60 min)的ZnO薄膜,O和Zn的原子比更接近1:1.FTIR光谱中,发现位于408 cm-1附近的ZnO的E1(TO)声学模式和位于380 cm-1处的A1(TO)模式;拉曼光谱中,观测到了分别位于99 cm-1和438 cm-1处的ZnO的E2(Low)和E2(high)模式拉曼特征峰;紫外-可见透过光谱显示,在可见光范围,ZnO薄膜具有高的透光率,平均透光率高于90％,ZnO薄膜的光学禁带宽度范围为3.27～3.28 eV,溅射时间为40 min时,ZnO薄膜的光学禁带宽度最接近单晶ZnO的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李翠平	天津理工大学电气电子工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点实验室	3	6	2.0	2.0
2	张尧	天津理工大学电气电子工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点实验室	1	3	1.0	1.0
3	黄绪	天津理工大学电气电子工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点实验室	1	3	1.0	1.0
4	朱振宇	天津理工大学电气电子工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点实验室	1	3	1.0	1.0
5	刘艳中	天津理工大学电气电子工程学院天津市薄膜电子与通信器件重点实验室	1	3	1.0	1.0