硅(100)衬底表面快速热退火制备硒纳米晶薄膜的结晶动力学

• 作者: 庄琼云 李成 潘书万 郑力新 陈松岩 黄巍
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 硒 纳米晶薄膜 结晶动力学 硅衬底 快速热退火
• 年，卷（期）: 2018,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜材料
• 页码范围: 1928-1931,1942
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3046字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2018.11.022

摘要

采用超高真空气相沉积系统在 Si(100)衬底上制备非晶硒(Se)薄膜,然后快速热退火制得 Se纳米晶薄膜.SEM 观察结果表明,当热退火温度高于 140 ℃,薄膜表面形貌从条状裂纹逐渐变成孤立的六角块状结构.Raman和 XRD测试分析发现,退火后的 Se纳米晶均为三角晶型结构,当退火温度高于 140 ℃时,Se开始沿(100)方向择优取向结晶.分析得出,在 Si(100)衬底上的Se晶粒(100)晶面的激活能比(101)晶面的激活能低,因而在(100)面上的结晶速率比(101)面上的结晶速率大,使得 Se在(100)方向择优结晶.笔者认为这是因为 Si(100)衬底对 Se的结晶具有诱导作用,致使硒的结晶具有各向异性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑力新	华侨大学工学院	144	934	15.0	24.0
2	潘书万	华侨大学工学院	12	30	3.0	5.0
3	庄琼云	黎明职业大学信息与电子工程学院	7	17	3.0	4.0