原子层沉积技术及应用

• 作者: 李刘合 苗虎 谷佳宾 韩明月
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 原子层沉积 自限制 前驱体 纳米催化剂 电池 半导体 光学 生物医学 航空航天
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 163-175
• 页数: 13页
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.09.022

摘要

简单阐述了原子层沉积技术的发展背景,然后概括了原子层沉积技术原理、技术特征和优势,并对化学吸附和顺次反应两种自限制机制进行了描述和比较.着重介绍了原子层沉积技术在工艺等方面的最新成果,以及在纳米催化剂、电池、半导体器件、光学、生物医学和航空航天领域中的相关应用.其中将原子层沉积在电池、半导体器件和生物医学方面的应用进行了分类介绍.电池方面包括锂离子电池和太阳能电池,半导体器件方面分为高k电介质、电容器、电阻随机存取存储器(RRAM)和光、电二极管.生物医学领域分别介绍了其在生物相容性、抑菌抗菌涂层和微观组分方向的研究进展.最后对原子层沉积技术进行了归纳总结,并展望了其未来的发展方向和应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李刘合		39	653	12.0	25.0
2	韩明月		3	7	2.0	2.0
3	苗虎		3	9	2.0	3.0
4	谷佳宾		1	4	1.0	1.0