电子级多晶硅金属杂质来源探讨

• 作者: 于跃 厉忠海 王培 谢世鹏 高召帅
• 来源期刊: 山东化工
• 学科: 工学
• 关键词: 电子级多晶硅 金属杂质 来源
• 年，卷（期）: 2018,（20）
• 所属期刊栏目: 生产与应用
• 页码范围: 102-103,105
• 页数: 3页
• 分类号: TQ426.95|TQ127.2
• 字数: 3045字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-021X.2018.20.043

摘要

电子级多晶硅金属杂质含量是评价其产品质量的重要指标之一,其杂质含量的高低直接影响影响下游晶圆制造产品质量,所以对其金属杂质含量的控制至关重要,本文主要从精馏、还原及后处理生产过程中每个环节浅析电子级多晶硅金属杂质的引入源,同时提出相应控制措施.