不同氮气气压脉冲激光沉积氮化钛薄膜的结构和电学性能

• 作者: 李玉雄 蒋春萍 谷承艳 陈益钢 隋展鹏
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氮化钛 脉冲激光沉积 氮气压 金属性 反射率
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术
• 页码范围: 6196-6200
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 字数: 3624字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.06.033

摘要

采用脉冲激光沉积的方法,以高纯TiN为靶材,6 5 0 ℃为生长温度,蓝宝石为衬底,在氮气气压分别为1 ,2 和3 Pa的条件下制备了氮化钛薄膜.研究不同氮气气压对氮化钛薄膜生长质量及电学性能的影响.研究发现,在不同氮气气压条件下,均获得了高质量的氮化钛薄膜,其表面致密、(111)晶面择优取向生长且具有金属性;随着氮气压的增加,氮化钛薄膜的(111)晶面对应的衍射峰向高角度方向移动,氮化钛薄膜的 N/Ti 减小,方块电阻减小,反射谱的最低点向短波长方向漂移.研究结果表明氮化钛薄膜的化学组成和金属性可以通过氮气气压来调节.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋春萍	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米器件与应用重点实验室	7	4	1.0	1.0
2	陈益钢	上海大学材料科学与工程学院	2	3	1.0	1.0
3	李玉雄	上海大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0
7	隋展鹏	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米器件与应用重点实验室	1	0	0.0	0.0
8	谷承艳	中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所纳米器件与应用重点实验室	1	0	0.0	0.0