NiSiO2太阳光谱选择吸收涂层的设计制备及热稳定性研究

• 作者: 武永鑫 王聪
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 光谱选择吸收涂层 介电函数模型 磁控溅射 光学模拟
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 9101-9106
• 页数: 6页
• 分类号: TK513
• 字数: 3299字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2018.09.018

摘要

采用软件模拟辅助实验的方式制备了新型Al/NiSiO2(M)/NiSiO2(D)/SiO2太阳光谱选择吸收涂层,并对其热稳定性进行了研究.使用磁控溅射技术,通过改变氧气(O2)流量制备了一系列NiSiO2膜层,研究了O2流量对膜层光学性能的影响,并使用光学模拟软件对涂层进行设计和优化.根据模拟优化结果在不锈钢基底上成功制备了Al/NiSiO2(M)/NiSiO2(D)/SiO2光谱选择吸收涂层,其吸收率(α)为0.933,400℃下的发射率(ε)为0.14.涂层在空气中450℃高温下热处理100h后,其吸收率与发射率之比(α/ε)由6.66上升至7.62,依然保持着较高的光谱选择性,表明涂层具有较好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王聪	北京航空航天大学物理学院凝聚态物理与材料物理研究中心	45	510	12.0	21.0
2	武永鑫		5	5	1.0	2.0