基于胶体晶体构筑银纳米薄膜及其抑制微放电性能研究

• 作者: 刘俊莉 吴朵朵 崔万照 白园蕊 胡天存 马建中 鲍艳
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: PS胶体晶体 磁控溅射 银薄膜 二次电子发射系数 抑制
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 515-519
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 字数: 3766字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2018.04.001

摘要

近年来,微放电效应的抑制研究在加速器、大功率微波器件等领域得到了广泛的关注.采用聚苯乙烯(PS)胶体晶体模板辅助磁控溅射法制备了类空心球结构的银薄膜,通过调节PS模板尺寸及溅射时间(镀银层厚度),得到具有抑制微放电效应的银薄膜.采用SEM表征银薄膜的形貌与结构,并用二次电子发射系数(SEY)测试平台表征银薄膜的SEY.结果表明,PS模板尺寸及溅射时间对银薄膜形貌及其二次电子抑制作用有显著的影响,当溅射时间为600 s,模板尺寸为1 000 nm时,银薄膜的SEY较小,即对二次电子的抑制作用较为显著,与初始镀银铝合金样品相比,其SEY值降低了48％.