热蒸发多孔Si/SiO2薄膜的光致发光特性研究

• 作者: 代福 朱慧群 王忆 罗仁华 范东华 赵丽特 陈毅湛
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 多孔 Si/SiO2 光致发光 能隙态模型
• 年，卷（期）: 2018,（z1）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 50-53
• 页数: 4页
• 分类号: O471|TB321
• 字数: 3775字
• 语种: 中文

摘要

本工作采用热蒸发法制备了多孔 Si/SiO2薄膜,利用拉曼、红外、XRD研究了薄膜的结构,SEM研究了表面形貌,使用光致发光(PL)谱对其发光特性进行了研究.结果表明,激发波长为 325 nm(2.88 eV)时,样品的峰位分别在 430 nm(2.88 eV)、441 nm(2.81 eV)、523 nm(2.47 eV)、554 nm(2.24 eV),激发波长为488 nm时,峰位在570 nm(2.18 eV),采用施主态Si悬挂键≡Si0位于 2.81 eV,受主态 Si悬挂键≡Si-位于 3.00 eV处,引入SiOx(x 小于2)和Si-O-Si缺陷态能级,能级分别为5.05 eV和0.63 eV,建立了 Si/SiO2薄膜的能隙态(EGS)模型,并讨论了其发光机制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王忆	五邑大学应用物理与材料学院	59	242	8.0	12.0
2	朱慧群	五邑大学应用物理与材料学院	29	82	4.0	6.0
3	范东华	五邑大学应用物理与材料学院	18	42	2.0	5.0
4	陈毅湛	五邑大学应用物理与材料学院	11	13	2.0	2.0
5	赵丽特	五邑大学应用物理与材料学院	18	45	4.0	6.0
6	代福	五邑大学应用物理与材料学院	12	25	3.0	4.0
7	罗仁华	五邑大学应用物理与材料学院	2	0	0.0	0.0