氧化锆陶瓷大抛光模磁流变抛光试验研究

• 作者: 尹韶辉 王长兵 罗虎 郭源帆 郭美键 陈逢军
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锆陶瓷 大抛光模 磁流变抛光 材料去除率 表面质量 超光滑表面
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 专题-高表面完整性加工
• 页码范围: 28-34
• 页数: 7页
• 分类号: TG148|TG580.692
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.07.005

摘要

目的 研发一种高效、高质量氧化锆陶瓷超光滑表面加工技术.方法 采用大抛光模磁流变抛光方式加工氧化锆陶瓷,利用自主研发的磁流变平面抛光装置,配制含有金刚石磨粒的磁流变抛光液,通过设计单因素实验,研究抛光时间、工作间隙、工件转速和抛光槽转速等主要工艺参数对氧化锆陶瓷平面磁流变加工性能的影响,并对材料去除率和表面粗糙度进行分析.结果 在工作间隙为1.4 mm、工件转速为100 r/min、抛光槽转速为25 r/min的工艺条件下,表面粗糙度在达到饱和之前随时间的增加而降低.抛光30 min达到饱和,表面粗糙度Ra达到0.7 nm.继续延长抛光时间,表面粗糙度不再改善.氧化锆陶瓷的材料去除率随着工件转速和抛光槽转速的增加而增大,随着工作间隙的增大而减小.当工件转速为300 r/min时,材料去除率可以达到1.03 mg/min;抛光槽转速为25 r/min时,材料去除率可以达到0.80 mg/min;工作间隙为1.0 mm时,材料去除率最高可达0.77 mg/min.结论 采用大抛光模磁流变抛光方法可以提高氧化锆陶瓷的材料去除率,同时获得纳米级表面粗糙度,实现氧化锆陶瓷的高效超光滑表面加工.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈逢军	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	43	418	10.0	18.0
2	尹韶辉	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	66	540	12.0	20.0
3	罗虎	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	3	27	3.0	3.0
4	郭源帆	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	2	9	1.0	2.0
5	郭美键	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	1	9	1.0	1.0
6	王长兵		1	9	1.0	1.0