喷流转晶法KDP晶体生长系统的流动与传质模拟

• 作者: 尹华伟 李志巍 李明伟 胡志涛
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: KDP晶体 喷流转晶法 流动传质 过饱和度 均方差
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 计算模拟
• 页码范围: 1362-1366
• 页数: 5页
• 分类号: O781
• 字数: 4075字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2018.08.029

摘要

提出了一种通过锥顶喷流改善KDP锥面过饱和度的晶体生长方法.采用有限体积法和滑移网格技术,对传统转晶法及喷流转晶法的KDP晶体生长过程进行了数值模拟.展示了两种生长方式下晶体表面过饱和度时均分布云图及均方差,分析了不同转速、不同喷流速度、不同晶体尺寸对晶面时均过饱和度及均方差的影响.结果表明:相比于传统转晶法,喷流转晶法晶体的锥面过饱和度提高且表面均匀性增加.提高喷流速度可以进一步提高锥面过饱和度,但其均方差却呈现先减小后增大的变化.旋转速度的增加能提高锥面过饱和度并减小其均方差.此外,晶体尺寸也会在一定程度上影响喷流的效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明伟	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	50	363	10.0	16.0
2	胡志涛	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	10	22	3.0	4.0
3	尹华伟	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	12	36	4.0	5.0
4	李志巍	重庆大学动力工程学院低品位能源利用技术及系统教育部重点实验室	1	2	1.0	1.0