铁硒基超导研究新进展:高质量(Li,Fe)OHFeSe单晶薄膜

• 作者: 倪顺利 冯中沛 周放 田金朋 董晓莉 袁洁 赵忠贤 金魁 黄裕龙
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 超导薄膜 临界磁场 临界电流密度
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 191-196
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.67.20180770

摘要

单晶薄膜形态的高温超导材料对于相关基础科学研究和应用开发都极为重要.多带的铁基高温超导体往往呈现丰富的物理现象,并具有较高的超导临界参数.特别是近年发现的插层(Li,Fe)OHFeSe超导体,无论对高温超导机理还是应用研究而言,都日益受到重视,已成为铁基家族中重要的典型材料.但是,该化合物含有OH键,加热易分解.因此,现有的常规高温成膜技术均不适用于生长该薄膜材料.为解决这一生长难题,我们最近发明了基体辅助水热外延生长法,实现了超导薄膜制备技术上的突破.本文简要介绍用此软化学成膜技术首次成功制备出(Li,Fe)OHFeSe单晶薄膜.该薄膜材料具有优良的结晶质量和较高的超导临界参数,特别是其高的临界电流密度和上临界场对应用开发有实际价值.因此,(Li,Fe)OHFeSe超导单晶薄膜的成功合成,为机理研究和应用开发分别提供了重要的实验载体和备选材料.另外,该薄膜技术也有望应用于其他功能材料的探索与合成,尤其是对常规手段难以获取的材料更具重大价值.