厚原子蒸气介质中原子选择性光电离的理论研究

• 作者: 卢肖勇 张小章 张志忠
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 光学厚介质 电离率 选择性
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 原子和分子物理学
• 页码范围: 72-79
• 页数: 8页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.67.20172340

摘要

激光在厚原子蒸气介质中传播时会产生脉冲形变和延迟现象,这会直接影响原子多步光电离过程中的电离率和选择性.从原子蒸气激光同位素分离的实际出发,对厚原子蒸气介质中的原子光电离过程进行了研究,利用密度矩阵方法描述原子的光电离过程,利用Maxwell方程描述激光在厚介质中的传播,建立了介质中同时存在两种同位素的激光传播电离方程组,考察了原子蒸气参数和激光参数对厚介质中平均电离率和平均选择性的影响.研究结果表明:对于较厚的原子蒸气介质,激光功率的增加使平均电离率升高,平均选择性下降;对于相对较薄的介质,适当地降低激光功率可以同时提高平均电离率和平均选择性.存在一个正的激光延时使原子蒸气中目标同位素的平均电离率达到最大.尽量延长激光脉冲的宽度不仅可以同时提高目标同位素的平均电离率和平均选择性,还可以降低对激光脉冲之间相对延时的控制精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张小章	清华大学工程物理系	49	413	12.0	19.0
2	张志忠		13	14	2.0	3.0
3	卢肖勇	清华大学工程物理系	3	0	0.0	0.0