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• 来源期刊: 科学中国人
• 学科: 地球科学
• 关键词: 光刻分辨力 科学中心 光刻机 脉冲强磁场 超高纯铝 特斯拉
• 年，卷（期）: kxzgr_2018,（23）
• 页码范围: 6-7
• 页数: 2页
• 分类号: N19

摘要

'超分辨光刻装备项目'通过国家验收国家重大科研装备研制项目'超分辨光刻装备研制'于11月29日通过验收。该光刻机光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。中科院理化技术研究所许祖彦院士等验收组专家一致表示,该光刻机在365纳米光源波长下,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米。