高压击穿在多晶硅生产中的应用

• 作者: 朱德富
• 来源期刊: 云南化工
• 学科: 工学
• 关键词: 还原炉 卤素灯 高压击穿 四氟套
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 19-20
• 页数: 2页
• 分类号: TQ127.2
• 字数: 1279字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-275X.2018.05.010

摘要

以我公司12对棒1至4号还原炉为例,介绍技改前卤素灯加热启动击穿在实际生产中遇到的问题,并与技改后高压击穿进行对比.说明高压击穿在多晶硅生产中的优点以及在生产中存在的问题,并提出相应的解决办法.

作者信息

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1	朱德富		1	0	0.0	0.0