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摘要:
Ga(In)AsN材料是一种新颖的半导体材料,对其进行适当的n型掺杂后其能带可调,宽度可调范围为0.8-1.4 eV,并且与Ge、GaAs衬底材料晶格匹配.这种独特的性能为新型光电器件的研发和应用提供了一个不可取代的候选材料.通过低温(T=10K)光致发光方法研究了激发功率密度对GaInNAs/GaAs单层子阱结构光致发光(PL)性能的影响.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 激发功率对GaInNAs单量子阱材料的光致发光的影响
来源期刊 电子测试 学科
关键词 化合物半导体 希氮 光致发光 载流子浓度 激子 复合 束缚态
年,卷(期) 2018,(8) 所属期刊栏目 理论与算法
研究方向 页码范围 42-43,48
页数 3页 分类号
字数 2314字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-8519.2018.08.019
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 普拉提·艾合买提 新疆大学物理科学与技术学院 9 2 1.0 1.0
2 莫敏·赛来 新疆大学物理科学与技术学院 1 0 0.0 0.0
3 奥布力喀斯木·祖农 新疆大学物理科学与技术学院 4 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
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化合物半导体
希氮
光致发光
载流子浓度
激子
复合
束缚态
研究起点
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期刊影响力
电子测试
半月刊
1000-8519
11-3927/TN
大16开
北京市100098-002信箱
82-870
1994
chi
出版文献量(篇)
19588
总下载数(次)
63
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36145
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