过孔的不同干法刻蚀工艺对TFT-LCD性能的影响研究

• 作者: 付亚 谢俊林 马国友 马春晖
• 来源期刊: 电脑迷
• 关键词: 过孔 侧面接触方法 干法刻蚀工艺 TFT-LCD 性能 影响研究
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 综合论坛
• 页码范围: 243
• 页数: 1页
• 字数: 2026字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-528X.2018.12.220

摘要

本文详细介阐述了TFT-LCD性能探测沉积膜层厚度和速率的工作原理.综合分析与探究过孔的不同干法刻蚀工艺对TFT-LCD性能的影响和沉积膜层的切变弹性声阻抗理论和界面处的出入阻抗概念,利用生产线设备制造出两种不同的LTPS陈列样品,导出了沉积一种材料膜层以及沉积多种材料膜层时复合系统的谐振频率变化和沉积层材料声阻抗和质量之间的理论关系式,为改善过孔的干法刻蚀率到导致接触面积不一致的问题提供充分的依据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢俊林		4	0	0.0	0.0
2	付亚		4	0	0.0	0.0
3	马国友		5	0	0.0	0.0
4	马春晖		4	0	0.0	0.0