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摘要:
电解铜箔是当前电子工业非常重要的材料资源,而添加剂对于电解铜箔的重要作用在行业内可谓众所周知,随着当前信息产业的不断升级,对于电子产品印刷电路板的制作要求也越来越高,这就需要进一步对电解铜箔技术进行升级,要想电解铜箔技术得到有效的升级,就必须要对解铜箔添加剂进行改良,通过对电解铜箔添加剂的发展趋势进行研究,可以找出电解铜箔添加剂的发展趋势和发展特点,为今后国内电解铜箔行业的发展提供参考.
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文献信息
篇名 电解铜箔添加剂研究进展
来源期刊 世界有色金属 学科 地球科学
关键词 电解铜箔 添加剂 研究进展
年,卷(期) 2018,(15) 所属期刊栏目 前沿技术
研究方向 页码范围 162-163
页数 2页 分类号 P694
字数 3157字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1002-5065.2018.15.101
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序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐建平 7 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
电解铜箔
添加剂
研究进展
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
世界有色金属
半月刊
1002-5065
11-2472/TF
大16开
北京市海淀区苏州街31号9层
2-642
1986
chi
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39
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