涂胶显影技术改进对对光刻工艺的影响

• 作者: 付亚 谢俊林 马国友 马春晖
• 来源期刊: 电脑迷
• 关键词: 涂胶显影技术 改进 光刻工艺 影响因素
• 年，卷（期）: 2018,（12）
• 所属期刊栏目: 电子技术
• 页码范围: 134
• 页数: 1页
• 字数: 2069字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-528X.2018.12.119

摘要

随着科学技术与社会经济的高速发展与不断完善,我国半导体工程得到快速发展,光刻技术是集成电路的关键技术之一,对整个制造成本的和制造质量具有至关重要的影响.但是影响光刻工艺的因素有很多,涂胶显影技术对于改进对对光刻工艺的影响具有重要意义,基于此,文章就此展开深入的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢俊林		4	0	0.0	0.0
2	付亚		4	0	0.0	0.0
3	马国友		5	0	0.0	0.0
4	马春晖		4	0	0.0	0.0