浅谈光掩模版设计与制作

• 作者: 王小霞 甄娟
• 来源期刊: 大科技
• 学科: 工学
• 关键词: Mask版 Mask版图设计 制版工艺
• 年，卷（期）: 2018,（32）
• 所属期刊栏目: 科技探索与应用
• 页码范围: 325
• 页数: 1页
• 分类号: TN253
• 字数: 1629字
• 语种: 中文

摘要

光掩模版(简称Mask)是TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器,Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)显示屏技术常用的光刻工艺所使用的图形母版.本文介绍了液晶显示屏中TFT-Array(阵列)侧基板和CF(彩色滤光片,color filter)侧基板的Mask的概念、Mask版图设计与制作相关基本内容.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王小霞		1	0	0.0	0.0
2	甄娟		3	2	1.0	1.0