调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜微观结构与性能影响

• 作者: 刘峰斌 司丽娜 张淑婷 田沁叶 阎红娟
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: TaN/TiSiN 共格外延生长 硬度 耐磨性
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与涂层性能
• 页码范围: 25-30
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2019.04.004

摘要

使用磁控溅射仪沉积一系列不同调制周期的TaN/TiSiN纳米多层膜.采用X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、摩擦磨损试验机分析与表征纳米多层膜微观结构和性能,研究调制周期对TaN/TiSiN纳米多层膜的微观结构、力学性能和摩擦学性能的影响.结果表明,TaN/TiSiN纳米多层膜均为面心立方结构,在(111)晶面和(200)晶面呈现择优取向.当调制周期为25nm时,TaN/TiSiN纳米多层膜硬度最大值为30.9GPa,摩擦系数与磨损量最小.TaN/TiSiN纳米多层膜的位错穿过TaN层与TiSiN层界面时将受到多层膜界面对其施加的镜像力作用,阻碍位错的运动,引起薄膜的强化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	阎红娟	北方工业大学机械与材料工程学院	20	86	6.0	8.0
2	刘峰斌	北方工业大学机械与材料工程学院	40	64	5.0	6.0
3	张淑婷	北方工业大学机械与材料工程学院	2	0	0.0	0.0
4	田沁叶	北方工业大学机械与材料工程学院	1	0	0.0	0.0
5	司丽娜	北方工业大学机械与材料工程学院	1	0	0.0	0.0