UV/NaClO高级氧化法降解再生水中磺胺甲恶唑

• 作者: 叶桂洪 李翼 杨海燕 陈义华
• 来源期刊: 浙江大学学报（工学版）
• 学科: 地球科学
• 关键词: UV/NaClO 磺胺甲恶唑(SMX) 降解速率 三氯甲烷(CHCl3) 再生水
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 能源工程、环境工程
• 页码范围: 186-192,206
• 页数: 8页
• 分类号: X703
• 字数: 5167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3785/j.issn.1008-973X.2019.01.021

摘要

为了提高再生水水质,采用UV/NaClO高级氧化法降解水中的磺胺甲恶唑(SMX),对比各种降解方法对SMX的去除效果,研究影响UV/NaClO降解SMX的因素,考察消毒副产物三氯甲烷(CHCl3)的产生情况,研究SMX在实际再生水中的去除效果.研究表明,UV/NaClO降解SMX的速率常数是单独UV、单独NaClO、UV/H2O23种处理方法的3.9、60、2.5倍,降解的最佳pH为3～8;NaClO投量会影响去除效果,在SMX初始浓度为1μmol/L,pH为7.4的条件下,最佳投量为0.1 mmol/L;污水厂二级出水和水环境中普遍存在的腐殖酸会与SMX竞争活性自由基和光子,降低了SMX去除率;与单独NaClO处理相比,利用UV/NaClO工艺能够明显减少水中三氯甲烷的产生;SMX在实验室超滤机过滤后的自来水中的降解速率是在实际再生水中的6.8倍.