硅橡胶绝缘子粉化层憎水性变化的研究

• 作者: 刘燕 周凯 张均 杨滴
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 硅橡胶绝缘子 粉化层 憎水性 红外光谱 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TM216
• 语种: 中文
• DOI: 10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2019.04.004

摘要

硅橡胶绝缘子运行后会逐渐老化,伞裙表面出现粉化层.为研究粉化层对硅橡胶绝缘子表面憎水性的影响,通过红外光谱(IR)、扫描电镜(SEM)等手段对现场取回的硅橡胶绝缘子进行研究,测试硅橡胶绝缘子粉化层的微观结构和化学成分,进一步分析粉化层表面憎水性变化的原因.结果 表明:绝缘子粉化层表面憎水性良好,但去掉粉化层后绝缘子表面憎水性明显下降.通过IR和SEM发现绝缘子的粉化层表面老化降解程度严重,硅橡胶材料主链上的分子键断裂,粉化层物质颗粒之间结构疏松,分子间相互作用力小,观察其微观形貌发现大量孔隙.因此水分不易附着在绝缘子伞裙表面,使运行老化后硅橡胶绝缘子表面仍具有良好的憎水性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周凯		143	755	15.0	20.0
2	刘燕		62	275	9.0	13.0
3	杨滴		13	114	7.0	10.0
4	张均		6	57	4.0	6.0