TiO2薄膜超精密抛光技术综述

• 作者: 李廷涛 李晓峰 赵伟林 赵恒 龚燕妮
• 来源期刊: 云光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 TIO2薄膜 像增强器
• 年，卷（期）: ygjs_2019,（1）
• 页码范围: 21-25
• 页数: 5页
• 分类号: TS933.5

摘要

高质量且表面粗糙度为纳米级的TiO2薄膜具有优良的光学减反作用,可作为像增强器输入窗的光学减反膜。化学机械抛光(CMP)技术是目前唯一可以实现全局化纳米级抛光的方法。要达到纳米级表面粗糙度,CMP技术的软硬件条件都十分重要。本文主要介绍了CMP技术的硬件条件,包括抛光机、抛光液和抛光垫,及其国内外技术对比,并介绍了目前国内TiO2薄膜CMP技术的研究现状。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李晓峰		30	61	4.0	5.0
2	李廷涛		8	3	1.0	1.0
3	赵伟林		3	0	0.0	0.0
4	赵恒		4	2	1.0	1.0
5	龚燕妮		3	5	1.0	2.0