ICP-OES测定金属镓中杂质元素

• 作者: 杨桂芳 汪洋 金兰英
• 来源期刊: 现代冶金
• 学科: 工学
• 关键词: 金属镓 ICP-OES 基体MSF
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: TG146.4+3|TG115.3+3
• 语种: 中文

摘要

介绍了电感耦合等离子体发射光谱(ICP OES)在直接测定金属镓中杂质含量上的应用.研究了仪器工作条件选定、分析线的选择、基体和酸干扰去除、检出限测量、精密度测量、回收率的测定.结果 表明该方法简便、快捷,有很好的分析精密度和较高的准确度,是一种较为理想的测定金属镓中杂质含量的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨桂芳		2	0	0.0	0.0
2	金兰英		1	0	0.0	0.0
3	汪洋		1	0	0.0	0.0