放电功率对微晶硅薄膜的晶化调控及光电性质的影响

• 作者: 尹训昌 张杰 易明芳 祝祖送 闻军
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶硅薄膜 晶化控制 光电性质 电子特性
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 318-322
• 页数: 5页
• 分类号: O433
• 字数: 2210字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0490-6756.2019.02.023

摘要

以SiCl4和H2为源气体 、采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在不同放电功率下沉积微晶硅薄膜,通过调节放电功率实现了微晶硅薄膜的晶化调控和光电性质的优化,并利用Langmuir探针和质谱计分别对等离子体空间的电子特性和中性基团进行在线检测,初步探讨了成膜的微观机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张杰	安庆师范大学物理与电气工程学院	61	188	7.0	11.0
2	尹训昌	安庆师范大学物理与电气工程学院	40	20	2.0	3.0
3	祝祖送	安庆师范大学物理与电气工程学院	28	28	3.0	3.0
4	易明芳	安庆师范大学物理与电气工程学院	22	64	5.0	6.0
5	闻军	安庆师范大学物理与电气工程学院	13	9	2.0	2.0