氢氦离子辐照条件下铍材料的溅射行为

• 作者: 姜进宇 李东昊 王继冰 简永星
• 来源期刊: 核科学与技术
• 学科: 工学
• 关键词: 氢离子 氦离子 溅射 铍材料
• 年，卷（期）: 2019,（3）
• 页码范围: 73-77
• 页数: 5页
• 分类号: TN3

摘要

本文借助蒙特卡罗程序SRIM研究了氢氦离子的入射能量和离子数量对铍材料表面溅射行为的影响。分析结果表明,同一种类入射离子在铍中的射程随入射离子的能量增加而增加,铍材料表面的溅射率随入射能量的增加而减小。在相同入射能量下,氢离子在铍中的射程比氦离子更长,而氢离子辐照造成的铍表面溅射率比氦离子更小。在本文的模拟范围内,入射离子的数目对氢氦离子在铍中的射程没有造成显著影响。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李东昊		1	0	0.0	0.0
2	姜进宇		1	0	0.0	0.0
3	王继冰		1	0	0.0	0.0
4	简永星		1	0	0.0	0.0