HVOF制备MCrAlY涂层过程中WC杂质颗粒的演变遗传行为研究

• 作者: 侯伟骜 冀晓鹃 刘建明 原慷 章德铭
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 热喷涂 MCrAlY,WC,组织演变
• 年，卷（期）: 2019,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与涂层性能
• 页码范围: 12-18
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2019.02.003

摘要

在热喷涂工业生产过程中,喷涂制备不同材料体系的涂层之前需要对送粉路径(送粉罐、送粉盘、搅拌器、送粉管路、送粉针)进行清理,但由于送粉路径内部结构复杂且存在静电吸附效应,使得残留于喷涂系统的粉末无法被完全去除,通常以微量杂质颗粒的形式被带入新涂层,进而影响新涂层的性能.为此,本文研究了在单晶基材表面采用高速火焰(HVOF)喷涂制备MCrAlY涂层过程中,送粉路径残留的WC杂质颗粒(WC-10Co4Cr)在涂层及涂层与基材界面处的遗传演变行为,分别采用SEM、EDS分析了WC杂质在喷涂态、热处理态涂层中的微观组织和相组成.研究结果表明,WC杂质颗粒确实存在于MCrAlY涂层中,并在后期热处理及氧化试验中进一步分解而固溶于涂层中,甚至扩散至单晶基材内部引起含W碳化物的生成,影响涂层及单晶基材的显微组织,改变局部的成分均匀性.同时,本文还采用ThermoCalc软件进行了热力学计算模拟,辅助分析了WC分解及W与C元素在显微组织中的遗传特性.对于WC类粉末和MCrAlY粉末共用的HVOF喷涂设备,建议给MCrAlY粉末配备单独的送粉路径,以确保涂层的纯净度与质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	侯伟骜		19	63	5.0	6.0
2	刘建明		28	119	6.0	10.0
3	冀晓鹃		8	22	3.0	4.0
4	章德铭		3	6	1.0	2.0
5	原慷		2	1	1.0	1.0