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摘要:
针对线距标准样片线间距的测量需求,基于关键尺寸扫描电镜(CD-SEM),提出了一种宽度测量方法.首先,介绍了CD-SEM测量系统的基本原理;其次,使用CD-SEM对VLSI生产的标称尺寸为100 nm、3μm、10μm的线距标准样片进行了测量;最后,对测量不确定度进行评定,并将测量结果与VLSI标准样片证书给出的标准值进行比对.结果表明:En值最大为-0.7,CD-SEM测量线间距的准确度很高.
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文献信息
篇名 基于CD-SEM的线距标准样片测量
来源期刊 上海计量测试 学科
关键词 线间距 CD-SEM 不确定度 线距样片
年,卷(期) 2019,(1) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 21-23
页数 3页 分类号
字数 2037字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1673-2235.2019.01.008
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李锁印 中国电子科技集团公司第十三研究所 27 40 3.0 5.0
2 韩志国 中国电子科技集团公司第十三研究所 20 26 3.0 4.0
3 赵琳 中国电子科技集团公司第十三研究所 20 27 3.0 3.0
4 冯亚南 中国电子科技集团公司第十三研究所 12 18 2.0 3.0
5 许晓青 中国电子科技集团公司第十三研究所 11 15 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
线间距
CD-SEM
不确定度
线距样片
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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双月刊
1673-2235
31-1424/TB
大16开
上海市宜山路716号
4-769
1973
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