国外正在关注这些集成电路新技术

• 来源期刊: 半导体信息
• 学科: 工学
• 关键词: 亚阈值摆幅 GAA 晶体管技术
• 年，卷（期）: bdtxx_2019,（1）
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: TN40

摘要

2018年12月,在美国旧金山或华盛顿哥伦比亚特区的召开的IEEE国际电子元件会议(International Electron Devices Meeting,缩写:IEDM)刚刚结束。在每一界的IEDM上,全球工业界与学界的管理者、工程师和科学家将会聚集在一起讨论纳米级CMOS晶体管技术、先进内存、显示、感测器、微机电系统元件、新颖量子与纳米级规模元件、粒子物理学现象、光电工程、功率与能量收集元件、高速元件、制程技术、元件模型化与模拟。