光学元件拼接测量中的定位误差校正

• 作者: 刘丁枭 李明 盛伟繁
• 来源期刊: 核技术
• 学科: 工学
• 关键词: 大口径光学元件 干涉 光学测量 拼接
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 所属期刊栏目: 同步辐射技术及应用
• 页码范围: 010103
• 页数: 1页
• 分类号: TL99
• 字数: 3057字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11889/j.0253‐3219.2019.hjs.42.010103

摘要

为了实现大口径反射光学元件表面面形的高精度测量,建立了拼接测量方法,用以得到光学元件表面的面形数据.但拼接测量存在较多误差,其中各局部面形之间的定位误差对拼接误差影响较大,需要通过校正来减少定位误差对拼接误差的影响.首先对被测镜进行局部面形划分,按着一定顺序完成所有局部面形的测量;然后,基于BFGS算法对各子口径面形之间的定位误差进行校正求解,进而得到整体面形数据;最后,使用ZYGO菲索干涉仪搭建了拼接测量设备,对反射镜中120 mm×20 mm的区域进行测量,将直接拼接方法与位移校正拼接方法获得的面形数据与全口径整体测量获得的面形数据进行了对比,位移校正拼接方法测量面形数据与全口径拼接测量面形数据残差小,结果表明该方法可以有效提高拼接测量精度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李明	中国科学院高能物理研究所	251	3222	29.0	47.0
5	盛伟繁	中国科学院高能物理研究所	11	16	3.0	3.0
9	刘丁枭	中国科学院高能物理研究所	2	1	1.0	1.0