磁畴结构对取向硅钢磁致伸缩的影响

• 作者: 孙亮 朱业超 田文洲 程祥威 胡守天 郭小龙 骆忠汉
• 来源期刊: 电工钢
• 学科: 工学
• 关键词: 磁致伸缩 磁畴 取向硅钢 磁感应强度 激光刻痕
• 年，卷（期）: 2019,（1）
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TG142.1
• 字数: 3026字
• 语种: 中文

摘要

本文概述了取向硅钢磁致伸缩的影响因素,采用交直流磁性测量仪、磁致伸缩测试仪和磁畴观察仪等手段研究了磁感应强度和磁畴结构对取向硅钢磁致伸缩的影响.结果表明:磁畴结构中主畴偏离角直接影响负的最大磁致伸缩,而锲形畴则对饱和磁致伸缩有显著影响,通过激光刻痕可以减少锲形畴,降低磁致伸缩.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	骆忠汉		13	20	3.0	3.0
2	田文洲		3	0	0.0	0.0
3	朱业超		6	18	3.0	4.0
4	胡守天		17	35	3.0	5.0
5	孙亮		3	3	1.0	1.0
6	郭小龙		11	10	2.0	3.0
7	程祥威		5	0	0.0	0.0