多孔MoS2/g-C3N4材料对水环境中四环素的降解

• 作者: 刘阳 夏训峰 朱建超 王丽君 高生旺 高红
• 来源期刊: 环境工程学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: MoS2/g-C3N4 浸渍-高温煅烧法 四环素 光催化降解
• 年，卷（期）: 2019,（4）
• 所属期刊栏目: 水污染防治
• 页码范围: 818-825
• 页数: 8页
• 分类号: X703
• 语种: 中文
• DOI: 10.12030/j.cjee.201809155

摘要

通过浸渍-高温煅烧法制备多孔MoS2/g-C3N4光催化剂,采用X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、N2吸附-解吸、紫外-可见光(UV-vis)漫反射吸收光谱对材料进行表征;并在可见光照射下,对四环素(TC)进行光催化降解.结果表明,催化剂量为2.0 g · L-1、pH为5.0时,对TC的去除效果最好,可见光照射180 min,MoS2/g-C3N4(1.0％-MC)复合材料对TC的降解率可达80.6％.反应完成后,复合材料循环利用5次,其降解效率仍保持在70.0％以上.浸渍-高温煅烧法所制备的MoS2/g-C3N4光催化剂具有良好的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏训峰		72	867	17.0	24.0
2	刘阳	昆明理工大学建筑工程学院	10	40	4.0	5.0
3	高生旺		4	11	2.0	3.0
4	朱建超		7	24	2.0	4.0
5	王丽君		12	92	6.0	9.0
6	高红	昆明理工大学建筑工程学院	31	98	7.0	8.0