CuBi2O4光阴极的旋涂工艺及光电化学性能研究

• 作者: 杜纯 杨杰
• 来源期刊: 辽宁化工
• 关键词: 光电催化 CuBi2O4 旋涂 薄膜均匀性
• 年，卷（期）: 2019,（5）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 398-400,403
• 页数: 4页
• 分类号: O643.36
• 语种: 中文

摘要

采用旋涂法在导电玻璃(FTO)上制备了CuBi2O4薄膜.通过调控旋涂的次数,得到具有较优光电化学性能的CuBi 2 O 4薄膜.同时研究了多次旋涂过程中旋涂转速、烘干温度对制备的薄膜的均匀性的影响.实验结果表明:采用3000 r/min转速,300℃的烘干温度可以得到均匀的薄膜.旋涂层数为4层时可以得到最优的光电催化性能,较旋涂3次的薄膜性能提升72％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨杰	华中科技大学材料科学与工程学院	59	245	9.0	13.0
2	杜纯	华中科技大学材料科学与工程学院	1	0	0.0	0.0